高纯氧化铝的除杂方法

点击次数：更新时间：19/09/30 17:25:09 来源：www.sdkhjt.com 【关闭】分享:

　　氢氧化铝快脱粉是制备的高纯氧化铝的原料之一，由于氢氧化铝快脱粉中含有硅酸盐、钠离子和钾离子，势必会对氧化铝产品的纯度造成不利的影响，所以我们需要想办法除去它们，通过以下资料我们来了解一下这方面的知识：
　　对于高纯氧化铝中的杂质硅酸盐，当PH在5.0~8.0范围时，硅酸在这个PH范围的水中完全电离，以硅酸根离子存在，只要过滤就能将硅杂质除去。所以除硅的方法是：在氢氧化铝快脱粉的悬浊液中加入浓度为1:3的稀HNO3，调PH5.5左右（调PH的方法是往悬浊液中滴加两滴配制的稀HNO3，用范围为5.0~9.0的PH试纸测PH,当PH为5.5时停止滴加）。当氢氧化铝悬浊液在85℃下边加热边搅拌一个小时，更有利于除去杂质硅，因为加热搅拌时，大粒的氢氧化铝快脱粉会溶解成更细小的微粒，使颗粒之间的杂质溶解到水中，有利于除去。PH调好后，用G4漏斗过滤，为了节省过滤时间，用抽滤机和抽滤瓶进行抽滤，以节约过滤时间。
　　对于钠离子、钾离子以及引入硝酸根离子，由于金属钠和钾化学活性较高，两离子完全溶解于水中，硝酸根离子也完全溶于水，所以去除高纯氧化铝的钠离子、钾离子和硝酸根离子时，要多清洗几次。清洗的方法是：将除过硅，且过滤过的氢氧化铝滤饼转移到组织搅拌匀浆机中，加入20~50倍的水（水的体积是滤饼体积的倍数）。搅拌10分钟，之后再用布氏漏斗抽滤。重复清洗步骤5次就可以把钠离子和钾离子去除。
　　根据多年的生产经验结合相关的文献资料，小编探索出了一套除去杂质的方法。不过由于高纯氧化铝的制备工艺多种多样，其除杂提纯工艺也有所不同，以上只是针对氢氧化铝快脱粉制备高纯度氧化铝的除杂方法。

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